掩模對準器是半導體制造過程中用于將圖案轉移到晶圓或基板上的精密機床；這些圖案是微米級和納米級的。圖案（結構）是使用陰影轉移方法創(chuàng)建的，其中要印刷的圖案（光掩模）放置在光源和要圖案化的基板（晶圓）之間。被圖案化的基板首先涂有感光材料（光致抗蝕劑），然后該材料對從陰影圖像投射的光作出反應。然后使用特定的化學品開發(fā)最終的圖案。這個過程通常被稱為光刻。

      掩模對準器使光刻能夠用于生產半導體器件，如晶體管、傳感器和醫(yī)療元件等。除了用光刻膠均勻涂覆基板的方法外，掩模對準器對于光刻工藝至關重要。掩模對準器用于將涂層基板精確地對準包含要圖案化的結構的光掩模，然后用光照射基板以將所需的圖案轉移到基板上。在光檢測器易受溫度變化影響的應用中，例如半導體光刻中使用的UV掩模對準器，必須將光檢測器溫度系數視為可能的誤差源。目前許多掩模對準器采用強大的汞（Hg）燈，發(fā)射高水平的紫外線，暴露基板上的光敏材料（光刻膠）。取決于所使用的光刻膠，光應在寬帶范圍或特定光譜 G：436 nm、H：405 nm 或 I：365 nm 中傳輸。

      獲得汞燈青睞的替代選擇是使用 UV LED 陣列。它們包含許多 LED，它們在 G、H 或 I 線波長下發(fā)光，或三者的組合，以產生與水銀燈泡相似的寬帶光譜。 （插圖-什么是掩模對準器）

      Gigahertz Optik GmbH 生產許多 不同配置的紫外濾光輻射計 經典光譜寬帶紫外燈，如 中高壓汞蒸氣燈或低壓燈 在面罩矯正器中發(fā)現。這些輻射計是與制造掩模對準器和其他光刻設備的客戶協調開發(fā)的。這通常導致我們成為具有自有品牌業(yè)務安排的OEM供應商。我們提供獨特的定制解決方案，例如內置于電子設備中的溫度校正功能，可測量溫度并相應地校正輻照度讀數。

      我們還提供用于測量不同LED波長輻照度的紫外輻射計和提供波長和強度信息的光譜輻射計。紫外濾光輻射計的優(yōu)點包括良好的性價比、所需的扁平薄型探測器設計、快速測量時間和堅固性。光譜輻射計不限于特定的光譜帶通，因此它們更通用和有用，特別是在研究用途中。

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      我們提供 帶濾光片校正探測器的紫外輻射計 適用于經典光譜寬帶紫外燈，例如中壓汞蒸氣燈或面罩對準器上的低壓燈。在這里，我們依靠與該領域主要客戶數十年的經驗。通常，我們還充當帶有客戶徽標的OEM供應商。 由于LED光源的使用越來越多，我們還提供 用于測量不同 LED 波長輻照度的紫外輻射計以及光譜測量系統(tǒng)（光譜輻射計）.紫外輻射計的優(yōu)勢在于其良好的性價比、扁平化設計、較短的測量時間和堅固性。光譜輻射計的測量在很大程度上與LED的光譜范圍無關。我們很樂意與您合作，為您找到最佳解決方案，我們也很樂意支持 OEM 標簽。

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